阿斯麦向英特尔交付首台EUV High-NA光刻机

世界领先的荷兰光刻机械制造商阿斯麦(ASML)宣布已向英特尔交付了第一台EUV High-NA光刻机。它是一种先进的半导体制造机器，价格超过3亿美元。

ASML在X上宣布了这一消息，在那里你可以看到卡车上的机器的照片，上面系着红丝带，好像是圣诞节的礼物包。“我们很高兴也很自豪能够向英特尔提供我们的第一个高数值孔径 EUV 系统，”它写道。

据传闻，英特尔在帕特·基辛格在四年内开发五种新制造工艺的战略上取得了快速进展，预计将开始在俄勒冈州的Fab D1X使用该机器。

EUV High-NA机器的批量生产预计最早要到2025年底或2026年才能开始。预计英特尔将采用 18A 工艺(18 埃，1.8 纳米)测试该机器，然后将其应用于芯片的批量生产，后续工艺尚未公开。

High-NA是指具有高数值孔径的EUV光刻机，其中有数值孔径为0.55的镜头，分辨率为8nm，与当前EUV机器的13nm相比有显着改进。

因此，EUV High-NA系统应该能够避免双重图案化，从而降低芯片结构的复杂性，从而对成本和良率产生积极影响。向EUV High-NA光刻的过渡不仅需要更大的建筑物，因为机器更大，而且还需要对生产链进行彻底的改革，无论是在使用的材料方面还是在芯片设计方法方面。因此，对于英特尔、台积电等公司来说，这是一个大笔投资的问题，远远超出了从ASML购买机器的范围。

这家荷兰公司在 2022 年宣布，它将能够在 2027 年至 2028 年期间每年开发 20 台 EUV High-NA 光刻机，以便不仅供应英特尔，还供应三星代工和台积电。

根据来自亚洲的传闻，ASML预计将在2024年制造10台EUV High-NA光刻机，其中6台将交给英特尔。如果是这样的话，并且没有出现其他问题，英特尔可能会在未来几年内有重要的机会收复过去在台积电上失去的阵地。

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